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一睹人间盛世颜 远赴人间惊鸿宴全诗,远赴人间惊鸿宴全诗作者 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月(yuè)24日消息,国家知(zhī)识产(chǎn)权(quán)局局长申长雨在新(xīn)闻(wén)发布(bù)会上表示(shì),将统筹(chóu)推进各类知识产权法律法(fǎ)规和制(zhì)度规则(zé)的制修订工作。其中,修改完善(shàn)集成电(diàn)路(lù)布图设计保(bǎo)护条例,适应大规模集成电(diàn)路发(fā)展需要(yào),助力芯片产业做大做强,服务数字经(jīng)济更好发展一睹人间盛世颜 远赴人间惊鸿宴全诗,远赴人间惊鸿宴全诗作者

  加强大(dà)数据、人(rén)工智(zhì)能、基因技术(shù)等新领(lǐng)域新(xīn)业态知识产权规(guī)则研究,助力相关(guān)领(lǐng)域创新发展。同时,积极参与知(zhī)识产(chǎn)权国际(jì)规则制(zhì)定,更好对接(jiē)高标准国(guó)际经贸规则(zé),助(zhù)力高水平对(duì)外开(kāi)放(fàng)。

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