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　　美光公司在华销售的产品未通过网络安全审查

　　据网(wǎng)信办消息，日前，网络安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)对(duì)美光公司在华(huá)销售产品进(jìn)行了网络安全审查。

　　审(shěn)查发现(xiàn)，美光公司(sī)产(chǎn)品存在较严(yán)重网络安(ān)全问题隐患(huàn)，对(duì)我(wǒ)国关键信息(xī)基(jī)础设施供(gōng)应链(liàn)造成(chéng)重大安全(quán)风(fēng)险，影响我(wǒ)国(guó)国家安全。为此，网(wǎng)络安(ān)全(quán)审(shěn)查办公室依(yī)法(fǎ)作出(chū)不予(yǔ)通过(guò)网络安全审查的结(jié)论。按照《网络安全法》等法律法(fǎ)规，我国内关键信(xìn)息(xī)基础设(shè)施的(de)运(yùn)营(yíng)者(zhě)应(yīng)停(tíng)止采购美光公司产品。

　　此次对美光公(gōng)司产品进行网(wǎng)络(luò)安全审查，目的是防范产(chǎn)品网(wǎng)络安(ān)全问题危(wēi)害国家关键信息基础设施(shī)安全，是维护国家安全的必要(yào)措(cuò)施。中(zhōng)国坚定推进高水平对外开放(fàng)，只(zhǐ)要遵守中国法律法规要求，欢迎各国(guó)企业、各(gè)类(lèi)平台产(chǎn)品服务(wù)进入中国市(shì)场(chǎng)。

　　3月(yu陌上花开是什么意思,代表什么，微信名陌上花是什么意思è)31日，中国网信(xìn)网(wǎng)发(fā)文称(chēng)，为保障关键信息基础(chǔ)设(shè)施供(gōng)应链安全，防范产品(pǐn)问题(tí)隐患造成网络安全(quán)风险，维护国家安全(quán)，依据(jù)《中华(huá)人民共和国(guó)国(guó)家(jiā)安全法(fǎ)陌上花开是什么意思,代表什么，微信名陌上花是什么意思》《中华人民共和国网络安(ān)全(quán)法》，网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室按照(zhào)《网络安全审查办(bàn)法(fǎ)》，对美光公司（Micron）在华销售的产(chǎn)品实施网络安(ān)全审查。

　　美(měi)光(guāng)是(shì)美国的存储芯片行业龙头，也是全球存储(chǔ)芯片(piàn)巨头之一，2022年收入来自中(zhōng)国市场收入从此(cǐ)前(qián)高(gāo)峰57％降至2022年约11％。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年(nián)三星电子、 铠侠、西部(bù)数据(jù)、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份(fèn)额约为(wèi) 96.76％，三星电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份(fèn)额约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公司中，江波龙、佰维存储等公司披露过(guò)美光等国际(jì)存(cún)储(chǔ)厂(chǎng)商为公司供应商(shāng)。

　　美(měi)光在江(jiāng)波龙采购占(zhàn)比已经显著下降，至少(shǎo)已经不是主(zhǔ)要大(dà)供应(yīng)商。

　　公(gōng)告显示， 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆供应商，采(cǎi)购约31亿(yì)元，占(zhàn)比33.52％；2022年，江波龙第(dì)一大、第(dì)二大和第三大(dà)供应商采(cǎi)购(gòu)金额占比分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波(bō)龙已经在存储产业链(liàn)上下(xià)游建立国内外(wài)广泛合(hé)作。2022年年报显示，江波龙与三(sān)星(xīng)、美光、西部数据等主(zhǔ)要(yào)存(cún)储(chǔ)晶圆原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供应的稳(wěn)定(dìng)性，巩固(gù)公司在下游市(shì)场(chǎng)的供应优势，公(gōng)司也与(yǔ)国(guó)内国产(chǎn)存储晶圆原厂武汉长(zhǎng)江存储、合肥长鑫保持良(liáng)好的合作。

　　有券商此前(qián)就分析(xī)，如果美光在(zài)中国区(qū)销售受(shòu)到限(xiàn)制，或将导致下游客户(hù)转而采(cǎi)购国外三星、 SK海力士，国内长江存储、长鑫存储等竞(jìng)对产(chǎn)品

　　分(fēn)析称，长存、长鑫(xīn)的上游设备(bèi)厂(chǎng)或从中受益。存(cún)储器的生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时代，2 维(wéi)到(dào)3维(wéi)的结构转变使刻(kè)蚀(shí)和薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步骤，同时刻(kè)蚀目(mù)前前沿要刻到 60：1的深孔(kǒng)，未来可(kě)能会更深的孔或(huò)者沟槽，催生更多设备需求。据东京电子(zi)披(pī)露(lù)，薄膜沉(chén)积(jī)设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75％。自长江(jiāng)存(cún)储被加(jiā)入美国限制名单，设备国产化(huà)进程加(jiā)速，看(kàn)好(hǎo)拓荆科技(jì)（薄膜沉积）等(děng)相关公司份(fèn)额(é)提升，以(yǐ)及存储业务占比(bǐ)较高(gāo)的(de)华海清科（CMP）、盛(shèng)美上海（清洗）等收入增长。

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