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建军是哪一年

建军是哪一年 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界(jiè)4月24日(rì)消(xiāo)息,国家知(zhī)识产(chǎn)权局局长申长(zhǎng)雨在新(xīn)闻发布会上表示(shì),将统筹推进各(gè)类知识产权(quán)法律法规和制度规(guī)则的制(zhì建军是哪一年)修(xiū)订工作。其(qí)中,修改完善集(jí)成电路布图设计保护(hù)条例,适应大规(guī)模集成电路发(fā)展需要,助力芯片产业做大(dà)做强(qiáng),服务(wù)数字经济更好发(fā)展。

  加强大数据、人(rén)工智能、基(jī)因技术等新领域新业(yè)态知识(shí)产权规则研究,助(zhù)力相(xiāng)关(guān)领(lǐng)域创新发展(zhǎn)。同时,积(jī)极参与知识产权国际规则制定,更好对接高标准(zhǔn)国际经(jīng)贸规则,助力高水(shuǐ)平(píng)对(duì)外开放(fàng)。

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