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刚和别人做完回家能发现吗,刚和别人做完能从外表看出来吗

刚和别人做完回家能发现吗,刚和别人做完能从外表看出来吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大(dà)家好(hǎo),来(lái)看一则突发消息。

  美光(guāng)公(gōng)司在华销(xiāo)售的产品未通过网络安(ān)全(quán)审查

  据网信办消息,日前,网(wǎng)络安全(quán)审(shěn)查办公室依法对美光(guāng)公司在华销售产品进行(xíng)了网(wǎng)络安全审查。

  审查发现,美光公司产品存在较严重网络安全问题(tí)隐患,对我国关键信息基(jī)础(chǔ)设施供应(yīng)链造成重大安全风险,影响我国(guó)国家安(ān)全。为此,网络安全审查办公室依法作出不予通过网络安全审查的结论(lùn)。按照《网络安(ān)全法》等法(fǎ)律(lǜ)法规(guī),我国内关(guān)键信(xìn)息基(jī)础(chǔ)设施(shī)的运营者应停止采(cǎi)购(gòu)美光公司产品。

  此(cǐ)次(cì)对美(měi)光公司产(chǎn)品进行网络(luò)安全审(shěn)查,目的是防范(fàn)产品网络安全(quán)问题危(wēi)害国家关键信息基(jī)础设(shè)施(shī)安全(quán),是维护国家安全(quán)的必要(yào)措(cuò)施。中国(guó)坚定(dìng)推进高水平对外开放,只(zhǐ)要遵守中国(guó)法(fǎ)律(lǜ)法规要求,欢迎各国企业(yè)、各类平台产(chǎn)品服务进(jìn)入中国市场。

  半导体突发!中国出手(shǒu):停(tíng)止采购!

  3月31日(rì),中国(guó)网(wǎng)信网发(fā)文称,为(wèi)保(bǎo)障关键(jiàn)信(xìn)息基础设施供应链(liàn)安全,防范产(chǎn)品(pǐn)问题(tí)隐患造成网络安(ān)全风(fēng)险,维护国家安全,依据《中华(huá)人民(mín)共和国(guó)国家安全法》《中华人民共和国(g刚和别人做完回家能发现吗,刚和别人做完能从外表看出来吗uó)网络安全法》,网络(luò)安全审查办公室按(àn)照《网络(luò)安全审查办法》,对美光公司(Micron)在华销售的产品实施网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查。

  半导体突(tū)发!中国(guó)出手(shǒu):停止采购(gòu)!

  美光是美国的(de)存(cún)储芯片行业(yè)龙(lóng)头,也是全球存储芯片巨头之一,2022年收入来自(zì)中国市场收入从此(cǐ)前高峰57%降至2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计(jì),2021 年(nián)三星电子、 铠侠、西部(bù)数据(jù)、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内存)市场份额(é)约(yuē)为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司中,江波龙(lóng)、佰维存储等公司披露过(guò)美光等(děng)国(guó)际存储厂商为公(gōng)司供应商(shāng)。

  美光在(zài)江波龙采购占比已经(jīng)显著下(xià)降(jiàng),至少已经不是主(zhǔ)要大供应商。

  公告显示, 2021年美光位(wèi)列江波龙第一大存储晶圆供应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第一(yī)大(dà)、第(dì)二大和第三大供应商采(cǎi)购金额占比分别是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目前江波龙已经(jīng)在存储产(chǎn)业(yè)链上下游建(jiàn)立国内(nèi)外(wài)广泛合作(zuò)。2022年年报显示,江波龙与三(sān)星、美光、西部数(shù)据等主(zhǔ)要存储晶圆原厂签(qiān)署了长期(qī)合约,确保(bǎo)存储晶圆供应的稳定性,巩固公司在下游(yóu)市场的供应优势,公司(sī)也与国内国产存(cún)储晶圆原厂武汉长江存储、合(hé)肥长(zhǎng)鑫保持良好(hǎo)的合作。

  有券商此前就分析,如果美光在中国区销售受(shòu)到限制,或(huò)将导致下(xià)游客户(hù)转(zhuǎn)而采购国(guó)外三星、 SK海(hǎi)力士,国内长江存储、长鑫(xīn)存储等竞对(duì)产品

  分析称,长存、长鑫的上游设(shè)备厂或从中受益(yì)。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代,2 维到3维(wéi)的结构转(zhuǎn)变(biàn)使刻蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最(zuì)大量(liàng)的加(jiā)工(gōng)设备。3D NAND每层均需要(yào)经过薄膜沉积工(gōng)艺步骤,同时(shí)刻蚀目前前沿要刻到(dào) 60:1的深孔(kǒng),未来可能会更深的孔或(huò)者(zhě)沟槽,催生更多设备需求。据东京电子披露,薄膜沉积设备及(jí)刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合计(jì)为75%。自长江存储被(bèi)加(jiā)入美(měi)国限制名单,设(shè)备(bèi)国产化进程加速,看好拓荆科(kē)技(薄膜沉积)等相关公(gōng)司(sī)份额提升(shēng),以及存储业务占(zhàn)比(bǐ)较高(gāo)的华海清(qīng)科(CMP)、盛美上(shàng)海(清洗)等收入增长。

 

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